还是以TWL-860FⅡ无水版显影机为例:
◆前处理部分:在前处理液的作用下,曝光后的硅胶层软化,受光部分的硅胶与感光层界面粘结力减弱,便于在后面的显影过程中容易被清除掉。
◆显影部分:在自来水的喷淋下,通过显影毛刷的转动和传动,曝光后的硅胶层被清除掉。
◆后处理部分:染色部分,将后处理液喷洒在版面上,通过毛刷的转动和传动,使已除去硅胶层的图文部分染色,以便于检查测量。
◆水洗和风干部分:将版面上多余的后处理液清洗干净,烘干版面。
时间:2013-06-24 来源:必胜网信息中心
还是以TWL-860FⅡ无水版显影机为例:
◆前处理部分:在前处理液的作用下,曝光后的硅胶层软化,受光部分的硅胶与感光层界面粘结力减弱,便于在后面的显影过程中容易被清除掉。
◆显影部分:在自来水的喷淋下,通过显影毛刷的转动和传动,曝光后的硅胶层被清除掉。
◆后处理部分:染色部分,将后处理液喷洒在版面上,通过毛刷的转动和传动,使已除去硅胶层的图文部分染色,以便于检查测量。
◆水洗和风干部分:将版面上多余的后处理液清洗干净,烘干版面。
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