一ã€æŠ€æœ¯çŽ°çŠ¶
  硅蒸镀薄膜是利用一氧化硅在真空ä¸è’¸é•€å½¢æˆçš„微米级薄膜。由于一氧化硅很ä¸ç¨³å®šï¼Œå®ƒå¾ˆå®¹æ˜“氧化æˆä¸ºäºŒæ°§åŒ–硅,所以在分åå¼ä¸å¸¸è®°ä¸ºSiOxå…¶ä¸x值在1-2之间。从原ç†ä¸Šè¯´ï¼Œå¯ç”¨æ¥çœŸç©ºé•€è†œçš„è’¸å‘技术都å¯ç”¨æ¥å½¢æˆç¡…蒸镀膜,但ä¸åŒçš„方法对蒸å‘æºæ料的组æˆæœ‰ä¸åŒçš„è¦æ±‚,得到的膜组æˆä¹Ÿä¸åŒã€‚é™¤äº†åˆ©ç”¨é€šå¸¸çš„ç”µé˜»åŠ çƒæˆ–é«˜é¢‘æ„Ÿåº”åŠ çƒåœ¨çœŸç©ºå®¤ä¸å¯ä»¥è’¸é•€SiOx薄膜外,也å¯ä»¥ç”¨ç”µåæŸï¼ˆEB)和低温ç‰ç¦»å体(Plasma)淀积SiOx膜。美国新泽西州PCæ料公å¸åˆ©ç”¨ä½Žæ¸©ç‰ç¦»å体在40-50℃和真空度0.75mm汞柱的æ¡ä»¶ä¸‹åˆ¶å¤‡äº†é˜»éš”性软包装用的SiOx膜。与æ¤åŒæ—¶ï¼Œç¾Žå›½åŠ å·žä¸€å®¶ç ”ç©¶æœºæž„ä¹Ÿç”¨å•†å“化了的ç‰ç¦»å体增强化å¦æ°”相淀积(PECVDï¼‰è®¾å¤‡åˆ¶é€ äº†é£Ÿå“包装用的SiOx膜。在日本,报é“了利用氩离å溅射的技术在PETæ料上镀敷了SiOx膜。所用的é¶æºç»„æˆä¸ºSiO2,74%ï¼›CaO,0%ï¼›NaO,16%ï¼Œå‡ ä¹Žæ˜¯æ™®é€šé’ é’™çŽ»ç’ƒçš„æˆåˆ†ã€‚除了在塑料薄膜上蒸镀SiOxè†œä»¥å¤–ï¼Œæœ‰ç‰¹æ®Šæ€§èƒ½çš„å…¶ä»–æ— æœºææ–™çš„é•€æ•·ç ”ç©¶å·¥ä½œå·²ç»å±•å¼€ï¼Œè¿™äº›æ–°ææ–™çš„ç ”ç©¶åŠ¨å‘值得我们密切注视。
  二ã€å¤åˆè½¯åŒ…装æ料的结构与性能
  å«æœ‰SiOx蒸镀薄膜的软包装æ料通常由三层组æˆï¼šSiOx膜夹在二层塑料膜ä¸é—´ï¼Œç”¨æ¥ä¿æŠ¤SiOx膜ä¸è¢«æŸä¼¤ã€‚å¯ä½œä¸ºè’¸é•€SiOx膜的基æ有PETã€LDPEã€OPPã€ONç‰ã€‚而与之å¤åˆçš„å¦ä¸€å±‚塑料膜å¯ä»¥æ˜¯èšä¸™çƒ¯ã€èšè‹¯ä¹™çƒ¯ã€èšé…°èƒºç‰ã€‚从便于回收的角度考虑,二层塑料膜å¯ä½¿ç”¨åŒä¸€ç§æ ‘脂,如外层用OPP,内层用CPP。
  与用PVDC作阻隔层的å¤åˆæ料相比,硅蒸镀膜å¤åˆæ料的é€æ°”性å—温度影å“较å°ã€‚例如,当温度由20℃上å‡åˆ°50℃时,PET/SiOx/CPPçš„é€æ°§çŽ‡ä»…ç”±0.21å¢žåŠ åˆ°0.5立方厘米/平方米•24h;在åŒæ ·æ¡ä»¶ä¸‹ï¼ŒPET/PVDC/CPPçš„é€æ°§çŽ‡åˆ™ç”±1.2å¢žåŠ åˆ°14.2立方厘米/平方米•24h。
  硅蒸镀å¤åˆè½¯åŒ…装ææ–™ä¸ä½†æœ‰ä¼˜è‰¯çš„阻隔性能,而且é€æ˜Žã€æŠ—çƒï¼Œèƒ½é€‚åˆäºŽå¾®æ³¢ç‚‰åŠ çƒã€‚这些性能都是é“ç®”å¤åˆææ–™ä¸å…·å¤‡çš„。é€æ˜Žçš„è½¯åŒ…è£…æ— ç–‘ä¼šå¯¹é”€å”®èµ·å¾ˆå¤§çš„ä¿ƒè¿›ä½œç”¨ã€‚
  SiOx镀敷æ料的缺点是ä¸èƒ½çƒå°åˆï¼Œå½“没有制æˆå¤åˆç»“æž„ä¿æŠ¤æ—¶ï¼ŒSiOx层较脆。由于它很薄,在适当地层åˆåŽï¼Œå®ƒæœ‰å¾ˆå¥½çš„æŠ—ç ´è£‚æ€§å’Œè€æŠ˜å 性。   
  三ã€åº”用å‰æ™¯
  硅蒸镀å¤åˆè½¯åŒ…装ææ–™éžå¸¸å¹¿æ³›åœ°è¢«åº”用。例如,它å¯ç”¨äºŽåŒ…装干燥食å“åŠå«æ°´åˆ†é«˜çš„食å“或液体食å“。还å¯ç”¨äºŽç‰™è†ã€è°ƒå‘³å“ã€ä¸€æ¬¡æ€§ç”¨åŒ…装åŠå„ç§å·¥ä¸šäº§å“ã€åŒ–工产å“ç‰æ‰€ç”¨çš„å¤åˆåŒ…装æ料。