技术发展 |
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起源:紫激光技术发展的起点是1999年紫激光二极管的出现。然而开发这种二极管的原始目的却不是为了满足印刷制版的需要。 1999年:Escher-Grad公司首先将紫激光二极管用于制版设备,制成Cobalt 8型内鼓式制版机。 2000年:在drupa展会上,7个欧洲厂家宣布推出各自紫激光CTP制版装置,全部用5mW的低功率激光器。 2001年:日本Nichia公司准备生产30mW的产品。 2002年:三菱化学公司的光聚合型CTP版开始发展起来,之后富士推出自己的阳图型光聚合版。 2003年:据RIT调查显示:紫激光CTP技术占全球金属CTP技术的16%。 2004年:在drupa展会上,紫激光技术成为焦点,爱克发、富士、海德堡等公司推出紫激光设备,功率在30~60mW。 2005年年底:富士发布了紫激光技术的最新发展:Brillia LP-NV2可以在200线/英寸的精度下再现1%~99%的网点。 2006年以后:紫激光CTP设备开始向速度更快、精度更高,采用模块化设计,降低入门门槛,强化联线自动化设备发展。 |
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